사고는 5일 오전 8시40분께 SK하이닉스 공장 D램 반도체 공정라인에서 이산화규소 가스가 누출되면서다.
이 사고로 현장에 있던 작업자 41명이 병원에서 진찰을 받았지만 별다른 이상이 발견되지 않아 모두 귀가 조치됐다.
경찰은 반도체 공정에 필요한 가스 공급배관 이음새에 생긴 틈에서 가스가 누출된 것으로 보고 정확한 사고 경위를 조사 중이다.
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